《 原子层沉积技术：从制造原理到装备应用》陈蓉,单斌,曹坤,刘潇 华中科技大学出版社 2025-08-01

内容简介：

本书围绕原子层沉积技术，针对原子层沉积工艺、纳米结构可控制造方法、智能制造装备研发和应用等方面进行阐述。全书共分为9章。其中，第1章阐述了原子层沉积技术的基本原理与工艺；第2和3章分别介绍了原子层沉积过程、微纳米颗粒原子层沉积技术与装备；第4章对选择性原子层沉积工艺进行了详细介绍；第5～9章讨论了原子层沉积技术在光致发光、电致发光、柔性封装、催化与能源材料等领域的应用，是前述章节理论方法的验证与拓展。本书可作为半导体、泛半导体、能源催化等领域从事材料、工艺和装备方面工作的研究人员和工程技术人员的参考用书，也可作为高等院校先进电子制造、能源环境相关专业的教材和教学辅导书。

目录：

第1章原子层沉积基本原理与工艺/11.1原子层沉积基本概念与历史发展/11.1.1原子层沉积技术的基本概念/21.1.2ALD技术的特点与优势/41.1.3原子层沉积技术的发展历程/61.2原子层沉积表面反应原理/91.2.1前驱体分子传质扩散/101.2.2前驱体吸附和反应动力学/151.2.3脉冲和吹扫时间/181.2.4表面活性位点和空间位阻效应/191.2.5薄膜生长模式及沉积速率的变化/221.2.6原子层沉积形核模型/241.3原子层沉积工艺调控原理/311.3.1前驱体与共反应物/321.3.2沉积温度窗口/331.3.3薄膜厚度控制/341.3.4饱和吸附/脱附时间/351.3.5薄膜质量/351.4典型原子层沉积工艺/361.4.1原子层沉积材料种类/361.4.2多元氧化物原子层沉积工艺/421.4.3高深宽比及多孔大比表面积基底沉积工艺/431.4.4微纳米颗粒表面包覆工艺/48本章参考文献/50第2章原子层沉积过程分析/532.1ALD数值建模方法/542.1.1ALD过程建模/542.1.2面向反应器的ALD过程分析/592.1.3高深宽比纳米结构与宏观反应器耦合研究/632.2空间隔离ALD建模分析/672.2.1空间隔离ALD系统仿真建模方法/672.2.2空间隔离ALD流域空间优化和喷头设计/692.2.3空间隔离ALD基底静态与动态流域研究/752.3薄膜沉积工艺研究/842.3.1面向高深宽比纳米结构的ALD工艺研究/842.3.2面向米级幅宽的空间隔离ALD工艺研究/91本章参考文献/104原子层沉积技术从制造原理到装备应用目录第3章微纳米颗粒原子层沉积技术与装备/1063.1微纳米颗粒流化状态分析/1073.1.1微纳米颗粒团聚现象/1073.1.2微纳米颗粒的流化原理/1093.1.3不同颗粒的分类及其流化现象/1103.2基于欧拉两相流的颗粒原子层沉积计算/1143.2.1基于计算流体力学的原子层沉积建模/1143.2.2基于欧拉两相流的流化床模型/1173.2.3基于欧拉模型的流化床模拟计算/1193.3离心旋转式微纳米颗粒包覆仿真与装备研发/1203.3.1离心流化技术/1203.3.2离心流化式ALD系统研制/1223.3.3流化实验与特性分析/1253.4超声流化式微纳米颗粒包覆仿真与装备研发/1353.4.1耦合颗粒运动与表面反应的流化床ALD模型/1353.4.2超声辅助的颗粒动态去团聚机理探究/1383.4.3超声辅助流化床ALD的颗粒包覆过程研究/1463.4.4前驱体传质与吹扫效率/1493.4.5超声包覆工艺参数的定量优化/151本章参考文献/155第4章选择性原子层沉积的原理与工艺/1584.1选择性原子层沉积理论研究/1614.1.1固有选择性沉积实验数据分析/1624.1.2抑制剂辅助选择性沉积实验数据分析/1634.1.3形核模型与表面反应动力学的耦合/1654.2基于表面特性诱导固有选择性原子层沉积研究/1684.2.1酸碱度诱导的选择性沉积研究/1684.2.2电负性诱导的选择性沉积研究/1754.2.3还原惭趸循环耦合选择性沉积工艺/1784.3基于抑制剂辅助的选择性沉积工艺研究/1864.3.1自组装分子层对不同前驱体的阻隔性研究/1874.3.2自组装分子层结合前处理提高选择性研究/1904.3.3分子抑制剂辅助选择性沉积拓展研究/1974.4金属的选择性沉积与后处理工艺研究/2004.4.1ALD制备金属钌薄膜工艺调控/2014.4.2金属Ru ALD短脉冲工艺优化/2034.4.3缺陷迁移消除的后处理工艺优化/205本章参考文献/209第5章光致发光材料表面的ALD调控与稳定化/2145.1铅卤钙钛矿纳米晶的相变过程及稳定性研究/2155.1.1双酸共辅助钝化策略稳定化研究/2155.1.2纳米晶相变行为研究/2235.2无机氧化物低温原子层沉积包覆技术/2315.2.1低温氧化硅等离子体增强原子层沉积工艺/2315.2.2等离子体增强原子层沉积包覆机理分析和应用/2365.3两步混合钝化策略提升光致发光薄膜稳定性/2405.3.1卤素钝化与原子层沉积包覆对发光性能的影响/2405.3.2有机配体与前驱体反应机理研究/2435.3.3稳定性测试及分析/2495.4复合微球结构原子层沉积包覆稳定化方法/2525.4.1原子层沉积包覆前后结构及性能变化/2525.4.2微球稳定性测试及机理分析/2555.4.3其他微球原子层沉积包覆稳定化方法/260本章参考文献/264第6章发光二极管器件功能层的ALD调控/2676.1界面器件发光层ALD钝化/2686.1.1钙钛矿量子点的ALD氧化铝改性/2686.1.2钙钛矿量子点发光二极管的界面钝化/2736.2电子传输层的ALD制备/2856.2.1原子层沉积电子传输层薄膜特性研究/2856.2.2原子层沉积对钙钛矿量子点薄膜的影响/2886.2.3单电子传输层的钙钛矿量子点发光二极管性能研究/2926.2.4双电子传输层的钙钛矿量子点发光二极管的性能研究/2946.3空穴注入层界面调控及结构优化/3016.3.1空穴传输层薄膜制备工艺研究/3016.3.2不同工艺制备薄膜性能对比研究/3036.3.3薄膜导电性、价带位置及透光率对比研究/3066.3.4基于NiOx原子层沉积的薄膜器件性能研究/307本章参考文献/311第7章封装薄膜原子尺度制备及应用/3147.1高阻隔无机叠层薄膜制备及应用/3157.1.1基于空间隔离原子层沉积无机复合薄膜的制备及应用/3157.1.2近零应力纳米叠层封装薄膜的制备及应用/3257.2可弯折柔性无机灿谢叠层薄膜的制备及应用/3327.2.1无机灿谢复合叠层封装薄膜制备与性能研究/3327.2.2叠层封装薄膜中性轴调控与弯折性能提升/3347.2.3有机发光二极管显示集成应用与可靠性测试/3407.3可弯折/可拉伸柔性衬底改性及性能优化/3427.3.1原子层渗透柔性衬底抗弯折性能研究/3427.3.2纳米颗粒掺杂柔性衬底抗拉伸性能的研究/3527.3.3紫外固化可拉伸柔性衬底水汽阻隔性能的研究/360本章参考文献/366第8章原子层沉积催化剂精细制备与构残Ч叵到立/3698.1高度分散团簇的可控制备/3708.1.1亚纳米贵金属团簇的制备/3708.1.2价态可控贵金属团簇的制备/3728.1.3贵金属团簇惭趸物功能界面的制备/3778.2包覆型结构构筑/3818.2.1网状包覆型结构的构筑/3818.2.2核壳型结构的构筑/3888.3表面位点选择性修饰/3938.3.1晶面选择性修饰/3938.3.2活性位点的钝化修饰/3968.3.3双位点的协同修饰/4008.3.4棱边位点的功能化修饰/4048.4催化限域构型设计/4088.4.1阱嵌型界面结构的设计/4088.4.2纳米阱界面结构的设计/4138.4.3限域型双活性位点的设计/419本章参考文献/425第9章原子层沉积在能源材料领域的应用/4279.1含能材料超薄包覆稳定化研究/4289.1.1三氢化铝颗粒稳定化方法/4289.1.2氧化钛阻隔层制备与性能研究/4339.1.3纳米铝粉稳定化方法/4399.1.4氧化锆阻隔层制备与性能研究/4449.2锂电池电极材料改性及性能优化/4469.2.1氧化铝包覆层稳定正极材料及锂电池性能的提升/4469.2.2氧化硼包覆层稳定正极材料及锂电池性能提升/4529.3燃料电池贵金属催化剂改性及性能优化/4639.3.1原位构筑金属间化合物及燃料电池性能提升/4639.3.2铂颗粒表面修饰与氧还原性能的提升/4769.4光电材料改性及性能优化/4879.4.1金属氧化物复合材料异质结构筑及光电化学性能提升/4879.4.2大面积倒置钙钛矿太阳能组件中的电子传输层性能提升/493本章参考文献/500