《原子层沉积技术--原理及其应用（第二版）》李爱东等科学出版社

内容简介：

本书是面向研究生和从事材料研发等相关行业的科研人员系统介绍原子层沉积技术原理及其应用的一本专业书籍，共分为十七章。包括原子层沉积的发展历史、原理、设备、前驱体、沉积材料与生长机理以及理论计算与模拟等基础内容，又着重论述等离子体增强原子层沉积和分子层沉积等特色技术，涉及了原子层沉积在微电子、纳米技术、光学、能源、催化、含能材料、生物医学、封装、防腐、分离膜等领域的应用，还特别介绍了正在快速发展中的原子层刻蚀技术。本书内容丰富新颖，在注重原子层沉积基本原理和生长机制阐述的同时，又突出了原子层沉积（刻蚀）材料的先进性和应用的前沿性，反映了原子层沉积（刻蚀）技术中的一些最新进展和成果，是先进技术原理与实际应用的有机结合。

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